Plaquette de silicium FZ NTD

La description

Plaquette de silicium FZ-NTD, connue sous le nom de plaquette de silicium dopée par transmutation de neutrons à zone flottante.Le silicium sans oxygène, de haute pureté et de résistivité la plus élevée peut être obtenu by Croissance cristalline Float-zone FZ (Zone-Floating), HLe cristal de silicium FZ à haute résistivité est souvent dopé par le procédé de dopage par transmutation neutronique (NTD), dans lequel une irradiation neutronique sur du silicium de zone flottante non dopé pour fabriquer des isotopes de silicium piégés avec des neutrons, puis se désintègre dans les dopants souhaités pour atteindre l'objectif de dopage.En ajustant le niveau de rayonnement neutronique, la résistivité peut être modifiée sans introduire de dopants externes et donc en garantissant la pureté du matériau.Les tranches de silicium FZ NTD (Float Zone Neutron Transmutation Doping Silicon) ont des propriétés techniques premium de concentration de dopage uniforme et de distribution de résistivité radiale uniforme, des niveaux d'impuretés les plus bas,et durée de vie élevée des porteurs minoritaires.

Livraison

En tant que fournisseur leader du marché du silicium NTD pour les applications d'alimentation prometteuses, et suite à la demande croissante de tranches de qualité supérieure, la tranche de silicium supérieure FZ NTDchez Western Minmetals (SC) Corporation peut être proposé à nos clients du monde entier dans différentes tailles allant de 2″, 3″, 4″, 5″ et 6″ de diamètre (50 mm, 75 mm, 100 mm, 125 mm et 150 mm) et une large gamme de résistivité 5 à 2000 ohm.cm dans les orientations <1-1-1>, <1-1-0>, <1-0-0> avec finition de surface brute de coupe, rodée, gravée et polie dans un emballage de boîte en mousse ou de cassette , ou comme spécification personnalisée à la solution parfaite.